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低雜質含量:
選用光學級PMMA(如三菱化學的VH001,透光率≥92%),減少內部散射(雜質/氣泡需<0.1%)。
避免使用回收料或含增塑劑的牌號(可能引入光散射點)。
共聚改性:
引入苯乙烯(St)或甲基丙烯酸芐酯(BzMA)共聚,提高折射率(PMMA通常1.49,共聚后可至1.53),增強全反射臨界角。
納米分散:
添加高折射率納米粒子(如TiO?@SiO?核殼結構,折射率1.9~2.2),但需控制濃度(<0.5%)以避免霧度增加。
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一、優(yōu)化切割和拋光工藝
1火焰拋光法2布輪拋光法3金剛石拋光法
二、激光網點設計
三、選擇高質量的原材料
不知道
紅外線穿透PMMA 羅姆化學 PLEXIGLAS 8N BLACK 90114 激光焊接亞克力
光學級PMMA 日本三菱麗陽 Acrypet VH5 001 導光板級亞克力
增韌阻燃級PBT+PC 沙伯基礎 VALOX 357-BK1066 防火5VA級PBT合金
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